【技术参数】 分辨率: 1.3nm@/20KV 1.5nm@/15KV 2.8nm@/1KV 放大倍数:12 – 1,000,000x 加速电压:0.1-30KV 探针电流:4 pA - 20 nA (4pA-40nA 可选) 样品室: 330 mm (φ) x 270 mm (h) 样品台: 5轴优中心全自动 X = 125 mm Y = 125 mm Z = 50mm T = 0 - 90° R = 360°连续旋转 系统控制:基于Windows XP 的SmartSEM操作系统,可选鼠标、键盘、控制面板控制 SUPRA系列 SUPRA 55 SAPPHIRE是一款拥有第三代GEMINI镜筒的高性能场发射电子显微镜,它有独一无二的摆动缓冲系统,并结合了5轴驱动载物台,通过不断变换电压可以获得很高的分辨率。对于使用者来说,SUPPRA 55 SAPPHIRE的系统功能强大,可以在性对不稳定的环境下完成检测,完全分析型的场发射扫描电镜探针电流可达到20nA,适用范围如材料领域、半导体技术、生命科学和纳米技术领域等。 ZEISS的场发射扫描电镜全部采用新一代专利镜筒(GEMINI)设计,具有优良的高、低加速电压性能。创新的InLens设计是目前世界上唯一真正的内置镜筒电子束光路上二次电子探测器,具有最佳的灵敏度和最高的接收效率,而且只接收来自样品表面的二次电子,因此具有业界最高等级的分辨率和图像质量。二次电子探测器和背散射电子探测器均内置于镜筒电子束光路上,试样的工作距离不受背散射探测器的影响,可以非常接近极靴,这样可以同时获得最高的二次电子像分辨率和背散射电子像分辨率,且接收的背散射电子的能量可以控制。ZEISS的场发射扫描电镜创造性的采用电磁、静电复合式物镜,杂散磁场小,可对铁磁体样品进行高分辨率成像。
If
you have a demand for our products or have suggestions and comments to
us, please fill out the form on the right, we will receive your
information, will contact you in the first time!